KAJIAN DESAIN JILBAB LUKIS PRODUK NASRAFA
DOI:
https://doi.org/10.33153/ornamen.v12i1.1615Abstract
Artikel ini membahas tentang desain produk jilbab lukis Nasrafa. Pembahasan menggunakan pendekatandesain yang dikemukakan oleh Nanang Rizali. Ada beberapa faktor latar belakang yang mempengaruhiNasrafa memproduksi jilbab lukis, antara lain yaitu : faktor ekonomi, sosial-budaya dan teknologi.Konsep desain jilbab lukis yang diproduksi oleh Nasrafa dengan mempertimbangkan berbagai aspek secaraterpadu seperti: Aspek fungsional produk jilbab lukis, sebagai penutup aurat dan pelengkap busana(accsesoris). Teknik yang digunakan dalam proses produksi adalah teknik lukis diatas kain (direct painting)penggambaran langsung pada kain menggunakan bahan pasta lukis. Aspek estetik pertimbangan gagasanatau sumber ide dan tema termasuk olahan ragam hias dan warna yang diaplikasikan pada produk jilbablukis, dan produk tersebut harus mencakup beberapa hal dalam desain, diantaranya: bentuk, warna, dankomposisi.Kata Kunci : Desain, Jilbab Lukis, NasrafaDownloads
References
Bahari, Nooryan. 2008. Kritik Seni. Yogyakarta:
Pustaka Pelajar
Palgunadi, Bram. 2007. Disain Produk 1: Disain,
Disainer, & Proyek Disain. Bandung:
Penerbit ITB
Permana, Doddie K. 2009. Desain Tekstil
Menggunakan Adobe Photoshop.
Bandung: Penerbit Informatika
Poerwadarminta, W.J.S. 2006. Kamus Umum
Bahasa Indonesia. Jakarta: Balai Pustaka
Pusat Bahasa Departemen Pendidikan Nasional.
Kamus Besar Bahasa Indonesia,
Edisi Ketiga. Jakarta: Balai Pustaka
Rizali, Nanang. 2006. Tinjauan Desain Tekstil.
Surakarta: UNS Press
Sugiarto. H, N & Shigeru Watanabe. 2003.
Teknologi Tekstil. Jakarta. PT. Pradnya
Paramita
Sumber-sumber lain
PT. Primelite Indonesia, “Tekstil Digital Printing
Sebuah Inovasi Menuju Gaya Hidupâ€,
www.primeliteindonesia.com. Diakses, 30
September 2014, pukul 20.08 wib
Nara Sumber:
Dian, pemilik Toko Jilbab Diana yang ada di
Beteng Trade center (BTC) Solo.
Yani Mardiyanto, S.E, (pemilik Jilbab Lukis
Nasrafa)
Downloads
Published
Issue
Section
License
Copyright Notice
Authors who publish with Ornamen agree to the following terms:
- Authors retain copyright and grant the journal the right of first publication with the work simultaneously licensed under a Creative Commons Attribution License (CC BY-SA 4.0) that allows others to share the work with an acknowledgment of the work's authorship and initial publication in this journal.
- Authors are able to enter into separate, additional contractual arrangements for the non-exclusive distribution of the journal's published version of the work (e.g., post it to an institutional repository or publish it in a book), with an acknowledgment of its initial publication in this journal.
- Authors are permitted and encouraged to post their work online (e.g., in institutional repositories or on their website) prior to and during the submission process, as it can lead to productive exchanges, as well as earlier and greater citation of published work.
This work is licensed under a Creative Commons Attribution-ShareAlike 4.0 International License.